基本情報
ゲステル製試料前処理、導入装置をご紹介しています。
特長・機能
GERSTEL
TDU2 / 加熱脱着ユニット
GERSTEL TDUは、小型で縦型、柔軟性に富んだ加熱脱着装置です。CIS4注入口との組合せで構成され、ゲステル製品の要として、多彩な試料導入法に対応可能です。
DHS / ダイナミックヘッドスペース
GERSTEL DHSはMPS roboticpro、TDUのオプションです。試料をトレイにセットした後は、サンプリングから加熱脱着導入、GC-MS分析までの完全自動化を実現します。
GERSTEL CCD2 - 加熱脱着装置用冷却オプション –
GERSTEL加熱脱着装置用の冷却装置です。 クライオフォーカス部(CIS4C)の温度を-40℃まで冷却可能なため、 液体窒素を使用することなく対象成分やアプリケーションの範囲が広がります。
1次元2次元切替GC-MS(特許登録済)
1次元GC-MSと2次元GC-MSの切替が1台のGC-MSのメソッド変更のみで可能です。 また2次元GC-MSにおける1次元目の「モニターTIC」を実現しました。 MS同時検出により保持時間の一致精度が格段に向上しました。
ODP4 / スニッフィングポート
GERSTELの匂い分析システムは、MSとの同時取り込みが可能です。MSと匂い嗅ぎのリテンションタイムを一致させることで、未知成分の同定に威力を発揮します。