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基本情報

膜厚モニター「FE-300」シリーズは、光の干渉(分光干渉法)を利用した膜厚測定器です。反射スペクトル測定により、非接触・非破壊でサンプルを傷つけることなく膜厚測定ができます。

特長・機能

小型で軽量!そして使いやすい親切設計

短時間で高性能測定

多彩な膜種や膜厚に対応

※ 測定可能な膜厚範囲は、タイプにより異なります。

充実のソフトウェア

測定画面
測定画面
解析条件設定画面
解析条件設定画面

分野・サンプル

仕様

測定項目

仕様

FE-300VFE-300UVFE-300NIR *1
本体標準測定タイプ薄膜測定タイプ厚膜測定タイプ厚膜測定タイプ
(高分解能)
サンプルサイズ最大8インチウエハー(厚さ5mm)
測定膜厚範囲
(nd値)
100 nm
~ 40 μm
10 nm
~ 20 μm
3 μm
~ 300 μm
15 μm
~ 1.5 mm
測定波長範囲450 nm
~ 780 nm
300 nm
~ 800 nm
900 nm
~ 1600 nm
1470 nm
~ 1600 nm
測定精度± 0.2 nm 以内 *2± 0.2 nm 以内 *2
繰り返し精度0.1 nm 以内 *30.1 nm 以内 *3
測定時間0.1 s ~ 10 s 以内
スポット径約 φ 3 mm
光源ハロゲン重水素とハロゲンの混合ハロゲンハロゲン
インターフェースUSB
電源AC 100 V± 10 % 50/60 Hz 300 VA
寸法280(W) × 570(D) × 350(H) mm
重量約 24 kg

データ処理部

コンピュータノート型パーソナルコンピュータ

ソフトウェア

標準ピークバレイ解析、FFT解析、最適化法解析、最小二乗法解析
オプション材料評価ソフトウェア、ポスト解析ソフトウェア、リファレンスプレート

*1 詳細はお問い合わせください。
*2 VLSI社製膜厚スタンダード(100nm SiO2/Si)の膜厚保証書記載の測定保証値範囲に対する値です。
*3 VLSI社製膜厚スタンダード(100nm SiO2/Si)の同一ポイント繰り返し測定時における拡張不確かさ(包括係数2.1)です。

[VLSI社製膜厚スタンダード(100nm SiO2/Si)は製品に付属していません。]

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