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GERSTEL

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ゲステル製試料前処理、導入装置をご紹介しています。

特長・機能

GERSTEL

TDU2 / 加熱脱着ユニット

TDU2 / 加熱脱着ユニット

GERSTEL TDUは、小型で縦型、柔軟性に富んだ加熱脱着装置です。CIS4注入口との組合せで構成され、ゲステル製品の要として、多彩な試料導入法に対応可能です。

DHS / ダイナミックヘッドスペース

DHS / ダイナミックヘッドスペース

GERSTEL DHSはMPS2-xt、TDUのオプションです。試料をトレイにセットした後は、サンプリングから加熱脱着導入、GC-MS分析までの完全自動化を実現します。

GERSTEL CCD2 - 加熱脱着装置用冷却オプション -

GERSTEL CCD2 - 加熱脱着装置用冷却オプション -

GERSTEL加熱脱着装置用の冷却装置です。 クライオフォーカス部(CIS4C)の温度を-40℃まで冷却可能なため、 液体窒素を使用することなく対象成分やアプリケーションの範囲が広がります。

1次元2次元切替GC-MS(特許登録済)

1次元2次元切替GC-MS(特許登録済)

1次元GC-MSと2次元GC-MSの切替が1台のGC-MSのメソッド変更のみで可能です。 また2次元GC-MSにおける1次元目の「モニターTIC」を実現しました。 MS同時検出により保持時間の一致精度が格段に向上しました。

ODP3 / スニッフィングポート

ODP3 / スニッフィングポート

GERSTELの匂い分析システムは、MSとの同時取り込みが可能です。MSと匂い嗅ぎのリテンションタイムを一致させることで、未知成分の同定に威力を発揮します。

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