基本情報
膜厚モニター「FE-300」シリーズは、光の干渉（分光干渉法）を利用した膜厚測定器です。反射スペクトル測定により、非接触・非破壊でサンプルを傷つけることなく膜厚測定ができます。
特長・機能
小型で軽量！そして使いやすい親切設計
- ノートPCと本体だけのシンプルな装置構成です。
- フォーカス合わせ不要で、誰でも簡単に測定できます。
- リタデーションの大きいサンプルでも精度よく測定可能です。［FE-300F］
短時間で高性能測定
- 光干渉法（分光法）による膜厚測定により、非接触・非破壊でサンプルを傷つけることがありません。
- 最短0.1秒と短時間で測定できます。
- 紫外域領域の反射率測定が可能な光学系を採用しています。
多彩な膜種や膜厚に対応
- 薄膜から厚膜までは幅広い膜厚に対応します。（10nm～1.5mm）※
- 非干渉層、傾斜層、超格子層を含む多彩なサンプルの膜厚と光学定数解析ができます。
※ 測定可能な膜厚範囲は、タイプにより異なります。
充実のソフトウェア
- 裏面反射を考慮した解析法を採用。透明基板（ガラスなど）でも高精度な解析を実現します。
- リアルタイムモニター機能、シミュレーション機能などを搭載しています。
分野・サンプル
- 半導体ウェハ（レジスト、SOI、SiO2など）
- 光学フィルム（ARフィルム、ITOなど）
- 光学ガラス（AR膜、機能性膜など）
仕様
測定項目
- 絶対反射率測定
- 多層膜厚解析
- 光学定数解析（n：屈折率、k：消衰係数）
仕様
| FE-300V | FE-300UV | FE-300NIR *1 | ||
|---|---|---|---|---|
| 本体 | 標準測定タイプ | 薄膜測定タイプ | 厚膜測定タイプ | 厚膜測定タイプ （高分解能） |
| サンプルサイズ | 最大8インチウエハー（厚さ5mm） | |||
| 測定膜厚範囲 （nd値） | 100 nm ～ 40 μm | 10 nm ～ 20 μm | 3 μｍ ～ 300 μm | 15 μｍ ～ 1.5 mm |
| 測定波長範囲 | 450 nm ～ 780 nm | 300 nm ～ 800 nm | 900 nm ～ 1600 nm | 1470 nm ～ 1600 nm |
| 測定精度 | ± 0.2 nm 以内 *2 | ± 0.2 nm 以内 *2 | – | – |
| 繰り返し精度 | 0.1 nm 以内 *3 | 0.1 nm 以内 *3 | – | – |
| 測定時間 | 0.1 s ～ 10 s 以内 | |||
| スポット径 | 約 φ 3 mm | |||
| 光源 | ハロゲン | 重水素とハロゲンの混合 | ハロゲン | ハロゲン |
| インターフェース | USB | |||
| 電源 | AC 100 V± 10 ％ 50/60 Hz 300 VA | |||
| 寸法 | 280（W) × 570（D） × 350（H） mm | |||
| 重量 | 約 24 kg | |||
データ処理部
| コンピュータ | ノート型パーソナルコンピュータ |
|---|
ソフトウェア
| 標準 | ピークバレイ解析、FFT解析、最適化法解析、最小二乗法解析 |
|---|---|
| オプション | 材料評価ソフトウェア、ポスト解析ソフトウェア、リファレンスプレート |
*1 詳細はお問い合わせください。
*2 VLSI社製膜厚スタンダード（100nm SiO2/Si）の膜厚保証書記載の測定保証値範囲に対する値です。
*3 VLSI社製膜厚スタンダード（100nm SiO2/Si）の同一ポイント繰り返し測定時における拡張不確かさ（包括係数2.1）です。
［VLSI社製膜厚スタンダード（100nm SiO2/Si）は製品に付属していません。］